6月27日～29日に中国上海で開催された「SEMICON China 2020」の関連行事の中国国際半導体技術大会の発表内容に関する記事。
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ムーアの法則を継続させる3D実装とEUVリソグラフィ技術
https://news.mynavi.jp/article/cstic2020-2/
中国ファーウェイが絶体絶命…イギリス「完全排除」が新冷戦に与える影響
https://gendai.ismedia.jp/articles/-/74373
半導体製品のライフサイクルと製造中止（EOL）対策
https://eetimes.jp/ee/articles/2007/21/news007.html